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產(chǎn)品中心鍍膜機(jī)原子層沉積系統(tǒng)鍍膜機(jī)
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
原子層沉積系統(tǒng)鍍膜機(jī)經(jīng)濟(jì)型科研沉積平臺(tái) 穩(wěn)定成膜、均勻可靠、面向材料研究便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高
| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,航空航天,綜合 |
原子層沉積系統(tǒng)鍍膜機(jī)
設(shè)計(jì)理念
1. SE series可執(zhí)行Thermal-ALD，PEALD，與ALA等*制程。
2. SE series具有高度的改造彈性，但其性能與穩(wěn)定性并不因此而犧牲。
3. 原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)具有便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高的產(chǎn)品定位。
設(shè)計(jì)特點(diǎn)
1. 模塊化前驅(qū)物導(dǎo)入系統(tǒng)易于維護(hù)、維修與擴(kuò)充最多4組前驅(qū)物，并可使用 低蒸汽壓前驅(qū)物；分流避免管路堵塞與粉塵問題
2. 低泄露率特殊設(shè)計(jì)，可摒除低劑量污染源影響制程結(jié)果
3. 滿足現(xiàn)行多數(shù)材料制程需求： Oxide or nitride of Al，Si，Ti，Zr，Hf，etc..Metal(TBD) 4. 單系統(tǒng)寬54cm內(nèi)，實(shí)驗(yàn)室友好尺寸
5. 特殊電漿源設(shè)計(jì)(Remote plasma)可提升GPC 6%(相較于ICP)
6. 特殊進(jìn)氣設(shè)計(jì)改善均勻性(U%<2%)針對(duì)死角殘留問題進(jìn)行特殊設(shè)計(jì)
原子層沉積系統(tǒng)鍍膜機(jī)
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