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原子層沉積系統(tǒng)鍍膜機(jī) 經(jīng)濟(jì)型科研沉積平臺(tái) 穩(wěn)定成膜、均勻可靠、面向材料研究 便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高

Desk V沉積鍍膜機(jī)使用一個(gè)2英寸的陰極進(jìn)行濺射，由一個(gè)最大輸出為100毫安的直流電源驅(qū)動(dòng)。使用傾斜/旋轉(zhuǎn)臺(tái)來實(shí)現(xiàn)好的樣品覆蓋，特別是在粗糙的表面。Desk V還可以在沉積前用蝕刻臺(tái)和快門對樣品進(jìn)行預(yù)清潔。不需要濺射嗎？你可以使用碳棒或碳紗進(jìn)行蒸發(fā)。 Desk V包括一個(gè)堅(jiān)固的機(jī)械泵，可迅速將系統(tǒng)的工作壓力提高到50 mtorr。想要更多的功能?選擇有著鋼制腔室和渦輪分子泵的DeskTSC來濺射